国家科技重大专项入驻杭州 推荐

法律法规网 作者:dations
来源 来源: 新知网  法律法规网 时间: 2017-08-04 14:30:26  评论(/)

浙江在线8月4日讯(浙江在线记者曾杨希通讯员周艳清)光刻机被称为人类技术发展的制高点和制造工业“皇冠上的明珠”。近日,国家02科技重大专项之一“28nm节点浸没式光刻机产品研发”的核心部件“光刻机浸液系统”项目签约入驻杭州青山湖科技城。

记者了解到,目前,该项目已拥有60余项发明专利,团队现有研发人员100余人。同时,该项目总投资5亿元,拟在青山湖科技城核心区新增用地25亩。

记者了解到,“28nm节点浸没式光刻机产品研发”针对的是高端光刻机。这是集成电路装备中技术难度最高的关键设备,目前,全世界只有少数几家公司能够制造。相关负责人介绍,该项目有望打破国外垄断,打造拥有自主知识产权的高端光刻机设备,对于我国芯片产业发展具有重大意义。

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